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日本Microphase 光譜橢偏儀 PHE

世界級高精度光譜橢偏儀！可以精確測量折射指數(shù)、消光系數(shù)（n & K)，膜厚等，廣泛適用于半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、金屬等材料，單層薄膜和多層膜。著名客戶包括US Army Research Lab，NASA，NIST，UC Berkeley，MIT，Harvard，Honeywell和Sharp Microelectronics等。

日本Microphase 光譜橢偏儀 PHE(圖1)

聯(lián)系人：林經(jīng)理

電　話：0755-29852340，29852450

手　機(jī)：13510161192

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