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MicroChem PMGI & LOR Lift-off光刻膠

PMGI&LOR光刻膠可在數(shù)據(jù)存儲、無線IC和MEMS等各種應用中實現(xiàn)高產量，金屬剝離工藝。在雙層光刻膠層使用時，PMGI和LOR將工藝范圍擴展到單層光刻膠層所能達到的范圍之外，包括高分辨率金屬化(< 0.25μm),以及很厚(> 4μm)金屬化。這些獨特的性能適用于多種材料，可滿足客戶的各種需要。

MicroChem ，PMGI & LOR Lift-off，光刻膠(圖1)

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