Plasma Cleaner等離子清洗機
NPC-4000（M）等離子清洗機概述：NANO-MASTER 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
NPC-4000（M）等離子清洗機產(chǎn)品特點
緊湊型立式系統(tǒng)
手動上下載片
不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
兼容100級超凈間使用
淋浴頭、ICP或微波等離子源
旋轉樣品臺
RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺
全自動或手動RF調諧
最多可支持8個MFC帶電拋光的氣體管路
PC計算機控制的氣動閥
帶密碼保護的多級訪問控制
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
機械泵的壓力可達到10mTorr
250 l/s的渦輪分子泵
極限真空為5x10-7Torr
完整的安全聯(lián)鎖
NPC-4000（M）等離子清洗機應用：
有機物以及無機物的殘留物去除
光刻膠剝離或灰化
去殘膠以及內腐蝕(深腐蝕)應用
清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架
提高黏附性，消除鍵合問題
塑料的表面改型：O2處理以改進涂覆性能
產(chǎn)生親水或疏水表面
NPC-4000（M）等離子清洗機Features：
Stand Alone System
Manual wafer Load/Unload
Stainless Steel, Aluminum or Bell Jar Chambers
Class 100 Clean Room Compatible
Shower Head, ICP or Microwave Plasma Sources
Rotating Platen
RF Biasable Heated up to 300 °C PID Controlled or Cooled Platen
Fully Automated or Manual RF tuning
Up to 8 Mass Flow Controllers with Electropolished Gas Lines
PC Controlled Pneumatic Valves
Multiple Levels of Access with Password Protection
PC Controlled with LabVIEW
Mechanical Pump with Pressure goes to 10 mTorr
250 l/sec Turbomolecular Pump
5x10-7 Torr Base Pressure
Fully Safety Interlocked
NPC-4000（M）等離子清洗/去膠機 Applications:
Removal of Organic and Inorganic Materials without Residues
Photoresist Stripping or Ashing
Desmearing and Etch Back Applications
Cleaning Microelectronics, Drilled Holes on Circuit Boards or Cu Lead Frames
Adhesion Promotion, Elimination of Bonding Problems
urface Modification of Plastics: O2 Treatment for Paintability
Producing Hydrophilic or Hydrophobic Surfaces